CVC 3000通过控制真空泵、真空阀、制冷剂阀和各种附件来实现真空过程调控。图形化操作界面，文本菜单一目了然（14种语言可选），飞轮式操作钮使操控非常便捷。某些版本的控制器的陶瓷薄膜真空传感器和放气阀已经内置其中（也可外部连接）。该陶瓷真空传感器具有非常好的耐化学性，测量精度高，不受气体类型影响。配VARIO®泵使用时，只需按一下键，就可实现全自动的蒸发控制。可以方便的编辑或储存十个可设参数的编程过程（*多可设十个，每步的压力可通过设置放气、抽气和自动蒸发等功能来实现控制）。采用VACUU·BUS®控制接口，外置的阀、液面传感器及高真空测量等附件可很容易的被连接到CVC 3000上，且都可以进行自动识别。同时，CVC 3000可以用一个参比传感器（VSK 3000）进行相对压力测量。

性能表现

■全过程中自动调节真空度，过程稳定性高，操作过程无需过多干预（与VARIO®泵搭配使用时）

■根据需求控制真空度、冷凝水或放气阀

■采用可旋转的飞轮按钮，操作直观，菜单清晰，内置放气阀

■用RS 232C串行接口交互通信（PC）

■采用 VACUU·BUS®系统的自我识别功能，可用于：VARIO®泵，阀（真空、放气、制冷剂）、传感器（真空、液面探测），Peltronic®冷凝器

应用

许多真空过程，比如蒸发或者浓缩，如果采用自动的电子真空控制，会使整个过程更加高效，而且条件会更温和。当CVC 3000控制器搭配电磁阀时，可实现两点法真空控制；当其和VARIO®泵配合使用时，可实现连续的甚至全自动的真空控制。采用阀门控制时，建议滞后值设为自动设定值。所有已设参数都可调整，即使是在真空控制过程中。压力、时间、泵和阀门的运行时间等参数已经设定完毕后，也都可再更改。

技术参数：

真空传感器：内置薄膜电容式传感器

控制范围：1080 mbar / 810 mm Hg ~ 0.1 mbar/ 0.1 mmHg

测量原理：陶瓷薄膜（氧化铝），电容式

测量的不确定性：< +- 1 mbar/hPa/torr / +- 1 数位 （经过校准，恒温）

真空接口： 10/8 mm PTFE 接头，DN 6/10 mm 软管喷嘴接头 （KF DN 16 小法兰可选）

放气阀接口：内置的，DN 4-5 软管喷嘴接头

尺寸（长x宽x高）， 大约：144 x 124 x 115 mm

重量， 大约: 0.44 Kg

订货号：683160